授業の目標と概要 |
本講義は、知的財産権に関連する法律について、エンジニアとして重要である内容を中心に体系的かつ具体的に解説 |
して、実際の創作活動に有効利用できるようにすることをその目標とする。特に、本講義では、特許の利用や、研究 |
成果を特許化して技術者としての利益を得るプロセス等を具体的な課題を交えて学習し、関連する制度についても理 |
解することを目標とする。また、本講義では、各自の卒業研究に関連する特許文献の検索を課題として行い、さら |
に、それらの文献の活用状況についてのレポート作成も行う。 |
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カリキュラムにおける位置づけ |
機械工学の基礎を身に付けた最終学年の学生に対して、各分野の技術者として科学技術を利用して、実際に発明し |
た結果を社会に有効に公開するための法的な取り決めや手続き等についての実際や考え方を、産業財産権(工業所有 |
権)の専門家の立場から解説する。 |
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Ⅰ 知的財産権法の体系 |
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・知的財産権の概要を体系的に理解する。 |
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Ⅱ 特許法: |
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1.法目的 |
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2.発明の概念 |
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3.特許要件 |
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4.出願手続 |
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5.特許権、実施権、権利侵害 |
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6.審判関連 |
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・特許制度の概要、 |
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・特許法の目的、及び法上の「発明」、 |
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・特許要件、先願主義、 |
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・特許を受けることができる者、 |
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・特許出願に必要な書類、 |
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・出願から登録までの流れ、 |
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・特許権の特徴、 |
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・権利侵害、 |
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・審判制度、 等の内容を理解する。 |
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Ⅲ 実用新案法 |
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・実用新案制度の概要、特許制度との相違 |
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(保護対象の違い、無審査登録主義、権利行使 |
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の特殊性)、 等の内容を理解する。 |
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Ⅳ 意匠法 |
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1.意匠の概念 |
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2.登録要件 |
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3.意匠法特有の制度 |
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・意匠制度の概要、 |
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・登録要件、意匠法特有の制度、 |
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等の内容を理解する。 |
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Ⅴ 商標法 |
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1.商標の概念 |
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2.登録要件、阻却要件 |
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3.商標法特有の制度 |
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