国立東京工業高等専門学校 シラバス 国立東京工業高等専門学校トップページへ戻る シラバス 閲覧戻る
教科目名
加工学
 
担 当 教 官 木村 南
学年、学科等 5年 機械工学科 通常講義
単位数 期間 必修 1 単位 前期 週2時間 (合計 30 時間)
授業の目標と概要
自動車、電機、素形材、半導体製造、マイクロマシン等におけるナノメートルサイズの加工に関する超精密切削、超精
密研削、超精密研摩、リソグラフ、エッチング、PVD、CVD技術を学び卒業研究における機械設計・機械製作技術へ導入
できることを目標とする。
カリキュラムにおける位置づけ
機械工作分野における専門応用科目の位置づけ。機械製作実習(1,2年次履修)により実際の機械加工技術を実習し、機
械製作法A,B(4年次履修)で学んだ切削、研削、研摩技術をより高精度化、精密化した半導体製造方法を学ぶことでメー
トルサイズからナノメートルサイズまでの機械加工技術を体系化に網羅する。半導体やセンサなどの機能材料(5年次履
修選択科目)への超精密加工技術に関する知識を提供する。
授業の内容 時間
1.輸送機器の製造工程  1.1自動車 1.2車両 1.3航空機 2
2.電機製品の製造工程  2.1パソコン 2.2携帯電話 2.3CD 2.4半導体 2
3.素形材の製造工程  3.1鉄鋼 3.2アルミ箔 3.3ガラス 3.4ゴム 3.5建材 2
4.精密加工について  4.1精密加工の意味 4.2精度の向上 4.3精密測定、分析技術(電子顕微鏡、X線回折) 3
5.超精密加工機械 2
5.1超精密加工機械の設計 5.2回転要素 5.3直線運動要素 5.4位置決め制御 5.5機体構造 5.6加工環境
6.超精密切削 2
 6.1超精密切削面の形成 6.2単結晶ダイヤモンド工具による切削 6.3 超精密ダイヤモンド切削応用例 
CO2レーザミラーの加工 精密光学部品金型の加工(導光板・マイクロレンズアレイ) 3
7.超精密研削  7.1半導体基板の研削 7.2ファインセラミックスの鏡面研摩
8.リソグラフおよびエッチング 3
8.1 光露光 8.2縮小投影露光 8.3X線露光 8.4電子ビーム露光 8.5 湿式エッチング 8.6プラズマエッチン 3
グ 8.7スパッタエッチング 8.8イオンビームエッチング 3
9.薄膜の性質  9.1薄膜とは 9.2成膜法 9.3薄膜成長 9.4薄膜の性質 9.5 付着強度
10.CVDとPVD 10.1熱CVD 10.2プラズマCVD 10.3真空蒸着 10.4イオンプレーティング 10.5スパッタリング   2
11.半導体製造工程
 11.1シリコン製造 11.2切断 11.3研削、研摩 11.4露光 11.5ダイシング 11.6ボンディング 11.7モールディ 2
ング
12.MEMS 12.1マイクロマシン 12.2フォト・ファブリケーション 12.3 ナノインプリンティング
13.表面処理 13.1電気めっき 13.2電鋳 13.3平坦化技術
前期末試験 1.5
   
   
   
   
   
   
   
   
教科書
超精密加工技術 日本機械学会編 コロナ社 モノができる仕組み事典 成美堂出版
補助教科書
超微細化工の基礎 電子デバイスプロセス技術 麻蒔立男著 日刊工業新聞社
履修上の注意
機械製作法A,B、応用物理、電子工学を履修していること。
評価基準
試験およびレポートにより自動車、電機、半導体などの製造プロセスと精密加工についての資料調査能力を有し、精密加工としての除去加工、付加加工について具体的に説明できることを基準とする。
評価法
定期試験80%,レポートなど20%
学習・教育目標 東京高専
C-6
JABEE
(d)