国立東京工業高等専門学校 シラバス 国立東京工業高等専門学校トップページへ戻る シラバス 閲覧戻る
教科目名
機器分析Ⅱ
 
担 当 教 官 阿久沢、高橋、町田、菊地、土屋、庄司、中川、城石
学年、学科等 4年 物質工学科 通常講義
単位数 期間 必修 1 単位 後期 週2時間 (合計 30 時間)
授業の目標と概要
 機器分析の原理、測定方法を理解し、測定データが解析できるようにする。
カリキュラムにおける位置づけ
 分析化学、有機化学、無機化学、機器分析Iと関連する。高学年においては卒業研究、高分子化学II、物性物理学、
錯体化学と関連する。
授業の内容 時間
以下の測定機器の原理、測定・解析方法について順に概説する。
1. 核磁気共鳴分光装置(中川) 6
2. 赤外分光光度計(町田) 6
3. X線光電子分光装置(城石) 2
4. 電気化学分析(城石) 2
5. ラマン分光光度計(土屋) 2
6. 電子スピン共鳴分光装置(阿久沢) 2
7. SEM、TEM(菊地) 2
8. 表面エネルギー測定装置(菊地) 2
9. 熱分析装置(高橋) 2
10. 表面積測定装置・生物活性測定装置(庄司) 4
   
   
   
   
   
   
   
教科書
 特になし
補助教科書
履修上の注意
 特になし
評価基準
 機器の使い方・分析法など習得したことを記述するレポートで60点以上とること。
評価法
レポートなど100%
学習・教育目標 東京高専
C-3,C-4,C-6,C-7,C-8
JABEE
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